纹理采样器

大多数情况下，在着色器在 GPU 上运行的程序。更多信息
请参阅术语表，纹理采样状态应来自纹理设置——本质上，纹理和采样器耦合在一起。这是使用 DX9 样式着色器语法时的默认行为：

sampler2D _MainTex;
// ...
half4 color = tex2D(_MainTex, uv);

使用 sampler2D、sampler3D、samplerCUBE HLSL 关键字声明纹理和采样器。

大多数时候，这是您想要的，并且是较旧的图形 API （OpenGL ES） 上唯一支持的选项。

单独的纹理和采样器

许多图形 API 和 GPU 允许使用比纹理更少的采样器，并且耦合纹理 + 采样器语法可能不允许编写更复杂的着色器。例如，Direct3D 11 允许在单个着色器中使用多达 128 个纹理，但最多只能使用 16 个采样器。

Unity 允许使用 DX11 样式的 HLSL 语法声明纹理和采样器，并使用特殊的命名约定来匹配它们：名称为“sampler”+TextureName 形式的采样器将从该纹理中获取采样状态。

上一节中的着色器片段可以用 DX11 样式的 HLSL 语法重写，它将执行相同的作：

Texture2D _MainTex;
SamplerState sampler_MainTex; // "sampler" + “_MainTex”
// ...
half4 color = _MainTex.Sample(sampler_MainTex, uv);

但是，这样可以编写着色器来“重用”其他纹理的采样器，同时采样多个纹理。在下面的示例中，对三个纹理进行采样，但所有纹理只使用一个采样器：

Texture2D _MainTex;
Texture2D _SecondTex;
Texture2D _ThirdTex;
SamplerState sampler_MainTex; // "sampler" + “_MainTex”
// ...
half4 color = _MainTex.Sample(sampler_MainTex, uv);
color += _SecondTex.Sample(sampler_MainTex, uv);
color += _ThirdTex.Sample(sampler_MainTex, uv);

Unity 提供了多个着色器宏来帮助使用这种“单独的采样器”方法声明和采样纹理，请参阅内置宏。上面的示例可以使用上述宏以这种方式重写：

UNITY_DECLARE_TEX2D(_MainTex);
UNITY_DECLARE_TEX2D_NOSAMPLER(_SecondTex);
UNITY_DECLARE_TEX2D_NOSAMPLER(_ThirdTex);
// ...
half4 color = UNITY_SAMPLE_TEX2D(_MainTex, uv);
color += UNITY_SAMPLE_TEX2D_SAMPLER(_SecondTex, _MainTex, uv);
color += UNITY_SAMPLE_TEX2D_SAMPLER(_ThirdTex, _MainTex, uv);

上述内容将在 Unity 支持的所有平台上编译，但会回退到在 DX9 等旧平台上使用三个采样器。

内联采样器状态

除了识别名为“sampler”+TextureName 的 HLSL SamplerState 对象外，Unity 还可以识别采样器名称中的其他一些模式。这对于直接在着色器中声明简单的硬编码采样状态非常有用。一个例子：

Texture2D _MainTex;
SamplerState my_point_clamp_sampler;
// ...
half4 color = _MainTex.Sample(my_point_clamp_sampler, uv);

名称“my_point_clamp_sampler”将被识别为应使用点（最近）纹理筛选和钳制纹理包装模式的采样器。

被识别为“内联”采样器状态的采样器名称（所有不区分大小写）：

• “点”、“线性”或“三线性”（必填）设置纹理过滤模式。

• “Clamp”、“Repeat”、“Mirror”或“MirrorOnce”（必填）设置纹理包裹模式。

  • 可以指定每轴 （UVW） 的包裹模式，例如“ClampU_RepeatV”。

• “比较”（可选）设置采样器进行深度比较;与 HLSL SamplerComparisonState 类型和 SampleCmp / SampleCmpLevelZero 函数一起使用。

• “AnisoX”（其中 X 可以是 2/4/8 或 16，例如Aniso8）可以添加来请求各向异性滤波。

下面是使用sampler_linear_repeat和sampler_point_repeatSamplerStates，说明名称如何控制筛选模式：

这是一个示例SmpClampPoint,SmpRepeatPoint,SmpMirrorPoint,SmpMirrorOncePoint,Smp_ClampU_RepeatV_PointSamplerStates，说明名称如何控制包装模式。在最后一个示例中，为水平 （U） 和垂直 （V） 轴设置了不同的环绕模式。在所有情况下，纹理坐标都从 –2.0 到 +2.0。

就像单独的纹理 + 采样器语法一样，某些平台不支持内联采样器状态。目前，它们在 Direct3D 11/12 和 Metal 上实现。

请注意，大多数移动 GPU/API 不支持“MirrorOnce”纹理包装模式，当不支持时，它将回退到镜像模式。

请注意，“AnisoX”过滤模式是基于平台功能和所选 API 的最佳选择。实际值将根据支持的最大各向异性水平进行限制（包括在不支持各向异性过滤的情况下禁用）。

纹理/采样器声明宏